電除鹽edi高純水處理設(shè)備(Electrodeionization)又稱(chēng)連續(xù)電除鹽技術(shù),它科學(xué)的將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)相融合,通過(guò)陰、陽(yáng)離子交換膜對(duì)陰、陽(yáng)離子的選擇性透過(guò)作用與離子交換樹(shù)脂對(duì)離子的交換作用,在直流電場(chǎng)的作用下實(shí)現(xiàn)離子的定向遷移,從而完成水的深度除鹽,同時(shí)水電離解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行再生,因此電除鹽edi高純水處理設(shè)備不需酸堿化學(xué)再生而能連續(xù)制取高品質(zhì)超純水。
■【工作原理】 :
1、RO產(chǎn)水進(jìn)入EDI模塊后被均勻地分配到淡水室中。
2、RO膜未脫除的微量離子被淡水室中的離子交換樹(shù)脂吸附在膜表面。
3、直流電加在E D I模塊的兩端電極,驅(qū)動(dòng)淡水室中的陰陽(yáng)離子向相應(yīng)電極遷移至濃水室,從而制取高純水。
4、在電場(chǎng)作用下,水分子被大量電離成H+和OH-,從而連續(xù)地對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行再生。
■ 【EDI進(jìn)水條件】:
水 源:反滲透RO產(chǎn)水
電導(dǎo)率:≤20μS/cm
*電導(dǎo)率:2-10μS/cm
zui大電導(dǎo)率:≤50μS/cm
PH值:6-8
溫度:5℃-38℃
進(jìn)水壓力:0.2-0.6MPa
硬度:小于0.5ppm,(以CaCO3計(jì))
硅:小于0.5ppm,(以SiO2計(jì))
【EDI高純水處理設(shè)備用途】
它具有技術(shù)*、結(jié)構(gòu)緊湊、操作簡(jiǎn)便的優(yōu)點(diǎn),可廣泛應(yīng)用于電力、電子、醫(yī)藥、化工、食品和實(shí)驗(yàn)室領(lǐng)域,是水處理技術(shù)的綠色革命。 出水水質(zhì)具有*的穩(wěn)定度。
【EDI技術(shù)參數(shù)】
膜塊性能 | |||||
膜塊型號(hào) | CP-5800S | CP-4500S | CP-3600S | CP-2000S | CP-1000S |
外形尺寸(mm) | 616×296×810 | 616×296×615 | 616×296×515 | 616×296×405 | 616×296×315 |
凈重(kg) | 160 | 130 | 110 | 80 | 68 |
純水流量(m3/H) | 4.2-5.8 | 3.0-4.5 | 2.0-3.5 | 1.0-2.3 | 0.9-1.2 |
濃水流量(m3/H) | 0.50-0.82 | 0.35-0.54 | 0.24-0.41 | 0.15-0.30 | 0.13-0.18 |
極水流量(L/H) | 60 | ||||
配套電源型號(hào) | CA-400 | CA-400 | CA-350 | CA-350 | CB-150 |
運(yùn)行電壓(V) | 100-300 | 80-240 | 50-180 | 50-120 | 20-100 |
運(yùn)行電流(A) | 0.5-5.5 |
進(jìn)水條件 | |
總可交換陰離子(mg/L,以CaCO3計(jì)) | ≤35 |
總硬度(mg/L,以CaCO3計(jì)) | ≤1 |
有機(jī)物TOC(mg/L) | ≤0.5 |
余氯(mg/L) | ≤0.02 |
氧化劑 | 未檢出 |
二氧化硅(mg/L) | ≤0.5 |
SDI15 | <1 |
PH值 | 7-9 |
溫度(℃) | 5-35 |
變價(jià)金屬(mg/L) | Fe≤0.01 Mn≤0.01 |
壓力(Mpa) | ≤0.4 |
【EDI高純水處理設(shè)備應(yīng)用范圍】:
制取電子工業(yè)生產(chǎn)如單晶硅半導(dǎo)體集成電路塊、顯象管、玻殼、液晶顯示器等。
醫(yī)藥行業(yè)用水:制藥、制劑工藝用水,醫(yī)療血液透析、生化分析、輸液等。
制取熱力、火力發(fā)電鍋爐,廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。
制取電鍍工藝用去離子水、
電池(蓄電池)生產(chǎn)工藝的純水,汽車(chē)、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗用純水.鍍膜玻璃用純水,紡織印染工藝所需的除鹽水。
石油化工如化工反應(yīng)冷卻、化學(xué)藥劑、化肥及精細(xì)化工、化妝品制造過(guò)程用工藝純水。