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多壁碳納米管
多壁碳納米管可以看成是不同管徑的單壁碳納米管套裝而成,少則2層多則達十多層,層距約為0.343nm,每層納米管式由碳原子通過SP2雜化與周圍3個碳原子*鍵和后所構成的六邊形平面組成的圓柱面,碳納米管直徑在幾納米到幾十納米之間,而長度可達數(shù)微米,具有較大的長徑比。
多壁碳納米管可用做催化劑材料、儲氫材料、復合增強材料、分子電子器件、特殊吸附材料等。
碳納米管分散技術三要素
碳納米管分散技術三要素:分散介質、分散劑和分散設備
1、分散介質
(1)根據(jù)粘度不同,分散介質分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質中,如水和有機溶劑,碳納米管易于分散。中粘度介質如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質如熔融態(tài)的塑料。
(2)碳納米管分散技術,針對中、低粘度分散介質。
2、分散劑
(1)分散劑的選擇,與分散介質的結構、極性、溶度參數(shù)等密切相關。
(2)分散劑的用量,與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關。
(3)水性介質中,*使用TNWDIS。強極性有機溶劑中,如醇、DMF、NMP, *使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠,*使用TNEDIS 。
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3、分散設備
(1)超聲波分散設備:非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質分散碳納米管,用于中、高粘度介質時會受到限制。
(2)研磨分散設備:適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質分散碳納米管。
(3)采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法,可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管分散劑用量*。
碳納米管分散難點
碳納米管分散,其實也就是所謂的納米級物料的分散,在做納米粉體分散或研磨時,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。
多壁碳納米管漿料一般固含量為5%,隨著充分的分散,漿料的粘稠度及流動性會逐漸變好。
CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。
CMD2000研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
設備核心參數(shù):
設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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