納米粉體膠體磨，納米粉體研磨設(shè)備，納米粉體膠體磨，納米粉體研磨機，納米粉體高速剪切膠體磨，納米膠體磨，納米膠體磨
納米粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題，其應(yīng)用日益廣泛，如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*，而且是十分重要的技術(shù)手段。
但是由于納米粉體粒度小，極易產(chǎn)生自發(fā)凝并，表現(xiàn)出強烈的聚團(tuán)特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團(tuán)的結(jié)果導(dǎo)致納米粉體材料性能的嚴(yán)重劣化。另一方面，在復(fù)合材料的制備過程中，由于納米粉體的這種強烈團(tuán)聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異，納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料，是復(fù)合材料的性能難以達(dá)到人們預(yù)期的效果。
所以為了解決這一問題，各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個目的。其一是使團(tuán)聚粉體的碎解和分散，盡力使團(tuán)聚粉體達(dá)到單粉體分散；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻，而在使用時需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對粉體材料進(jìn)行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進(jìn)行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進(jìn)行分散、混合與均化處理。
SGN膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液、納米懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，GM2000在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。
SGN膠體磨結(jié)構(gòu)：
三道磨碎區(qū)：一級為粗磨碎區(qū)，二級為細(xì)磨碎區(qū)，三級為超微磨碎區(qū)。
我們的磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
GM2000系列高剪切膠體的特點：
1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
2、齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
GM2000系列設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 出/入口連接 |
GM2000/4 | 700 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GM2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GM2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
GM2000/20 | 20，000 | 2，850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GM2000/30 | 40，000 | 1，420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GM2000/50 | 80，000 | 1，100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注：流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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