68t/h電子工業(yè)用高純水設(shè)備(http://www.dgsy168.com/)
一、制備電子工業(yè)用高純水設(shè)備概述
制備電子工業(yè)主要包括半導(dǎo)體材料、印刷電路板、液晶顯示器、光電器件、微電子工業(yè)以及大規(guī)模集成電路,這些領(lǐng)域?qū)τ谟盟蠖挤浅8?,一般將電子行業(yè)用水分為五個等級,分別是1 MΩ.cm、5 MΩ.cm、10 MΩ.cm、16 MΩ.cm和18 MΩ.cm。制備電子工業(yè)用高純水設(shè)備采用*的制水技術(shù),保證設(shè)備的出水水質(zhì)達(dá)到18兆歐以上。
二、制備電子工業(yè)用高純水設(shè)備工藝流程
電子行業(yè)制備高純水的工藝大致分成以下幾種:
1、采用離子交換樹脂制備高純水的其基本工藝流程為:原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器→保安過濾器→陽床→陰床(復(fù)床)→混床→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點。
2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備其基本工藝流程為:原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器→保安過濾器→高壓泵→反滲透設(shè)備→RO水箱→混床泵→混床→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點。
3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備,這是一種制取高純水的工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟(jì),發(fā)展?jié)摿薮蟮?/span>高純水制備工藝,其基本工藝流程為:原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器→保安過濾器→高壓泵→反滲透設(shè)備→RO水箱→(EDI)泵→保安過濾器→紫外線→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點。
三、LTLD-C制備電子工業(yè)用高純水設(shè)備的特點
EDI裝置不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運行,進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。其主要特點如下:
連續(xù)運行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定,容易實現(xiàn)全自動控制,無須用酸堿再生,不會因再生而停機,節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施,產(chǎn)水率高(可達(dá)95%),無須酸堿儲備和酸堿稀釋運送設(shè)施。
占地面積小,使用安全可靠,避免工人接觸酸堿,降低運行及維護(hù)成本,設(shè)備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施,安裝簡單、費用低廉,設(shè)備初期投資大。