EDI高純水設(shè)備多少錢(qián)?
EDI高純水設(shè)備又被稱(chēng)為edi和連續(xù)電除鹽。是利用混和離子交換樹(shù)脂吸附給水中的陰陽(yáng)離子,同時(shí)這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下,分別透過(guò)陰陽(yáng)離了交換膜而被去的過(guò)程。EDI高純水設(shè)備這一過(guò)程中離子交換樹(shù)脂是被電連續(xù)再生的,因此不需要用酸和堿對(duì)之再生。這一新技術(shù)可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的離子交換裝置,生產(chǎn)出電阻率高達(dá)18mω·cm的高純水。
EDI高純水設(shè)備(http://www.dgsy168.com/)將離子交換樹(shù)脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間形成edi單元。edi工作原理如圖所示。? edi組件中將一定數(shù)量的edi單元間用網(wǎng)狀物隔開(kāi),形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下,通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到濃水室而被淡水中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水。
EDI高純水設(shè)備一般以反滲透(ro)純水作為edi給水。ro純水電阻率一般是40-2μs/cm(25℃)。edi純水電阻率可以高達(dá)18.2mω.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途,edi純水適用于制備電阻率要求在1-18.2mω.cm(25℃)的純水。edi技術(shù)被制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。
EDI高純水設(shè)備技術(shù)(http://www.dgsy168.com/Air.htm)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點(diǎn):
①水質(zhì)穩(wěn)定
?、谌菀讓?shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制
③不會(huì)因再生而停機(jī)
?、懿恍杌瘜W(xué)再生 ⑤運(yùn)行費(fèi)用低 ⑥廠(chǎng)房面積小?、邿o(wú)污水排放